问忍不住通过翻译追问，“具体采用什么类型的磁场？强度多大？”

    陆向真微微一笑：“这是我们根据自身设备条件和材料特性，摸索出的一种有效方法。但，具体参数属于工艺机密。”

    她话锋一转，示意工作人员取来几片经过不同工艺处理的硅片样品，在简易但洁净的检测台下展示。

    硅片在灯光下反射出均匀的光泽，数据虽然只是基础的电学参数，但已足够证明其“可用”性，绝非空白一片。

    威廉·福斯特博士不知为什么，格外关注针对单晶硅的制备区。

    他没有先去看研究所工作人员取来的硅片样品，而是先仔细打量着那台经过无数次“土法”改造、加装了自制磁场稳定装置的区熔单晶炉，眼神锐利，似乎想从那些略显粗犷的外表下看出内在的门道。

    “很……独特的设备。”福斯特通过翻译评价道，语气听不出褒贬，“据我所知，磁场辅助区熔技术对磁场均匀性和稳定性要求极高。贵所是如何解决这个难题的？”

    几乎同样的问题，他们提了第二遍。

    这次带着一丝更加深入的试探意味。

    陆向真神色不变，从容应答：“我们确实遇到了一些挑战。通过建立完善的理论模型指导，并结合大量的实验反馈进行结构优化，我们初步解决了稳定性问题。”

    “不过，再说一遍，具体的改进涉及多项专利和技术秘密，恕不便详谈。”

    她接着示意工作人员展示最近几批单晶硅棒的检测报告，“若有疑虑，各位可以看看我们硅片的检测数据。”

    当看到电阻率均匀性偏差小于5%、位错密度显著降低的检测数据时，代表团中的窃窃私语声明显增多了。

    这些数据虽然距离国际最顶尖水平仍有差距，但已完全达到了可用标准，证明了共和国研究者并非闭门造车，而是切实掌握了核心技术环节。

    “令人印象深刻，陆所长。”福斯特博士由衷地说道，“在如此有限的条件下，取得这样的进展，需要非凡的智慧和毅力。”他的赞誉显得真诚许多。

    他终于拿起一片经过化学机械抛光处理后的硅片，对着光线仔细观察其表面光洁度，又询问了关于表面缺陷控制的一些问题。

    这次是由何沁负责回答，她拿出提前准备好的、不涉及具体配比和工艺的对比图谱，展示了改进前后的效果差异，同样做到了既展现成果，又保护诀窍。

    代表团的其他人凑近仔细观看，甚至拿出放大镜观察硅片边缘，原来脸上或多或少的轻慢之色终于彻底消失，取而代之的是浓重的惊讶和审视。