第233节
    办公室内,王多鱼跟他们简单说明了一下关于浸没式光刻机的技术。

    “它其实是采用折射和反射相结合的光路射击,且曝光区域与光刻机透镜之间充满水的光刻机设备.”

    浸没式光刻机的优点,在于系统数值孔径的增大,提升了步进扫描式光刻机的成像分辨能力,可以满足45纳米以下成像分辨率的工艺要求。

    缺点也十分明显,那就是因为浸没液体的引入,导致设备本身的工程难度大幅度增加。

    “关键技术主要包括浸没液体供给与回收技术、浸没式液场维持技术、浸没式光刻污染与缺陷控制技术、超大数值孔径浸液式投影物镜开发与维护、浸液条件下成像质量检测技术等”

    王多鱼并没有全说那些关键技术。

    毕竟这些都是围绕着浸没相关的技术,说实话,对现在的李康民他们来说,研发难度还是非常大的。

    就这个改进,一旦完成的话,那么就可以超越西方国家,使得我们的光刻机能够生产出两位数的纳米芯片。

    目前市面上的芯片那都是三位数纳米芯片,比如现在的步进式扫描光刻机,现在还只是三百六十五纳米,都还没进入到一百九十纳米这个级别。

    所以李康民他们还有很大的技术优化空间。

    “听君一席话胜读十年书!”

    姚文荣惊叹不已:

    “王教授,您太厉害了,我都不敢想象,如果您能够全程参与光刻机的研发工作,恐怕我们早已经进入到两位数纳米芯片时代了.”

    李康民和薛宇恒两人连连点头附和,表示赞同。

    对于这样的彩虹屁,王多鱼早就听习惯了。

    “我就是技术指导,你要是让我真的参与研发的话,我恐怕会是两眼一抹黑”

    这不是谦虚,而是事实。

    毕竟王多鱼厉害的地方在于计算、创新设计等,但在实际的实验测试等,他就不那么精通了。

    比如光刻机的透镜,为了能够实现高分辨率,要求透镜必须具有高折射率,也就是要求透镜材料必须非常纯净和均匀,任何微小的不均匀性或缺陷都可能导致图像失真。

    光刻过程中,刚才王多鱼提及的CaF2光源,其光线波长极短,能量极高,透镜受到高能量光的加热,因此透镜材料必须具有良好的热稳定性,以防止由于温度变化导致的焦点漂移问题。

    所以在研发过程中,对这样的材料技术要求自然是非常高。

    王多鱼或许就不具备这样的细致心理,甚至细微的失败,都有可能让他抓狂。

    这种科研并不会给他带来任何的成就感,因为难度系数非常高,他自觉做不了。

    就好像要让李康民他们去求导求解那些数学难题一样,他们绝对是没办法做到的。

    “王教授,如果我们真的要启动这个项目,按照您刚才的建议,只怕这次的投资会更高.”

    李康民沉吟说道,目光中透露着担忧:

    “我就怕校领导层会不太愿意,这一次需要很多种材料和高端设备,特别是您提及的CaF2光源,这种光源.”

    众所周知,光源是光刻机的核心部件之一,必须具备良好的光学性能、稳定性和耐久性,氟化钙便是光刻机光源的重要材料。

    作为一种常见的光学材料,氟化钙可以用于制造光学元件、窗口等,其化学式便是CaF2,是一种无色透明的晶体。

    由于其具有较好的光学和物理性质,氟化钙的透过率高,能达到百分之九十以上,且在紫外到红外的波段范围内具有较高的透过率。

    但是在制备光刻机光源过程中,氟化钙的制备要求精度高、晶体结构均匀无疵点,并且氟化钙的表面要平整、光洁、无裂纹、无划痕等表面缺陷。

    另外,光刻机光源的使用过程中,还需要对氟化钙的温度、湿度等环境因素进行控制,以确保其稳定性和寿命。

    所以终上所述,仅仅只是制备光刻机CaF2光源,便需要耗费大量的设备、资金等,背后代表了大量的资金投入。

    特别是在研发阶段,更是如此,更别说王多鱼要求在半年内完成,那么这款光刻机的研发要求之高,投入之多,就更不用说了。

    王多鱼当即便说道:

    “你们不用担心这件事,我肯定会处理好项目投资的事情,肯定不会让你们操心资金和设备的问题.”

    “节前我就已经跟刘书记和吕校长聊过这件事了,他们很支持我的决定,总之你们不需要担忧资金的事情,我来解决.”

    “你们唯一需要操心的就是技术研发的问题,还有就是半年内给我研制出来,我们已经落后太多了,不能够再继续磨磨蹭蹭下去了”

    听到王多鱼这么说,李康民他们三人顿时感觉到如山的压力,扑面而来。

    姚文荣更是忍不住再次确认道:

 

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