他握着严正行的手用力摇了摇，语气里的激动不似作伪。
虽然人是国家塞进来的，但这可是一位能解决光刻机难题的真神！
海天现在最缺的就是这种能扛大梁的重点技术领军人物，这简直是瞌睡遇到了枕头！
“魏总过誉了。”
严正行推了下眼镜，声音平静道：
“能回国效力，是我的荣幸。”
魏天华热情不减：
“几位远道而来，不如我带各位参观一下我们的工房，也让严博士和张顾问给我们把把脉？”
他特意看向严正行，眼中带着期待：
“您简历里提到的光刻机镜头像差补偿方案，我们技术团队研究了很久，一直找不到完美的适配参数。”
“等下参观完工房，还请您不吝赐教！”
张云摇了摇头，这位老总真会说呀，他几次都插不上嘴。
魏天华立刻招呼进来一位穿着白色防静电工服，戴着厚厚眼镜，气质沉稳的中年工程师。
“这是我们公司的技术总监陈进一陈总工。
老陈，陪几位贵客去趟一号超净间。”
“当然没问题，几位跟我来吧。”
在魏天华和陈进一的陪同下，张云三人换上全套防尘服。
经过层层风淋，走进了恒温恒湿，光线柔和得有些冷冽的超净间。
巨大的玻璃罩内，一台银灰色的精密设备正安静运行，如同一只蛰伏的巨兽。
机身上印着［SSA600/20］的标识。
陈进一走到其中一台最为庞大复杂的设备旁，眼神里带着工程师特有的自豪：
“张顾问，严博士，这就是我们海天目前最先进，也是国内唯一能稳定量产28纳米芯片的前道光刻机。”
魏天华点了点头：
“算是我们龙国在光刻领域，目前能拿出的最高答卷了。”
张云的目光扫过这台精密的机器，外壳上蓝色的海天Logo在无影灯下泛着微光。
他开口问道：
“陈工，这台光刻机的参数如何，属于什么水平？”
陈进一笑容一滞，脸色变得有些尴尬。
第34章 不抢就换
陈进一想到张云似乎并非技术工程师的身份，还是耐心的解释了：
“这台SSA600/20采用的是193n化氩深紫外光源。
它的曝光波长达到了28纳米，采用沉浸式光刻技术。
配合我们自研的双工作台系统，每小时能完成120片晶圆的曝光作业，套刻精度控制在3纳米以内。
它的光源系统用了我们自己研发的准分子激光器，稳定性比进口设备提升了15%。
而且重点零部件国产化率超过80%。
当然，和国际顶尖的5纳米光刻机比，还有差距。
但这已经是我们目前能拿出的最好成果了。
目前，我们还在集中攻克7纳米制程的量产问题。”
陈进一的话有些无奈，龙国的半导体行业，尤其是光刻机技术还是太落后了些。
谁都知道半导体领域想要突破，核心中的核心就是光刻机。
如今龙国大部分高端芯片，都需要依赖进口生产。
而且存在技术专利的问题，每年都要花上一大笔授权费用。
眼前这台机子已经是好几年前的产物了，光是7纳米级别的生产就已经卡了他们许多年。
张云听完后，紧接着问道：
“它在七纳米以下的制程上有什么问题吗？”
陈进一没想到他会直接问出这个问题，愣了一下才回答：
“问题还不少，主要是在多重曝光的叠加误差上。
DUV的波长是193n从根本上限制了分辨率的理论上限。
目前28纳米波长要实现7纳米制程，需要进行4次曝光。
但每次曝光的定位误差会累积，目前最多只能稳定在9纳米左右，离量产要求的7纳米还有距离。”
严正行听到这里，叹了口气，心里摇了摇头。
这就是他当初为什么离开龙国的原因了。
和世界顶尖的光刻机相差数代的技术，要怎么靠努力去追赶？
但靠张云可以呀！
张云等人此次前来的目的，自然是为了解决芯片生产问题，使其能够在战备状态下提供应有的支持。
不过张云还没有天真到，认为能花几个月时间就造出一台超越EUV光刻机的东西。
虽然张云的脑中确实有全套光刻机的生产技术。
但还是那个问题，技术消化也需