氩离子撞的不是光刻胶，是光刻胶没有覆盖的区域。那些区域在光刻步骤被极紫外光照过，光刻胶发生了化学变化，溶解性改变，在显影液里被洗掉了。洗掉的地方露出下面的氮化硅硬掩模。硬掩模下面是二氧化硅介质层。介质层下面是金属互连线。金属线下面是更多层——总共四十二层，像一层一层叠加的地质沉积。蚀刻就是从沉积中挖出结构。挖的方式是用等离子体垂直轰击，把没有被保护的区域吃掉。吃掉的深度必须精确控制——吃浅了，介质层没打穿，金属线接不上；吃深了，打到下面的金属层，短路。短路就是不该连的连上了。不该连的连上了就是信息错了。错了就是传断了。
高槿之的工作不包括操作蚀刻机——他在设计端，不在制造端。但他每次流片都会到FAB来看蚀刻。不是为了监督——代工厂的工艺工程师不需要他监督。他来是因为他想看。想看等离子体的蓝光，想看硅片在真空腔里旋转，想看机械手把硅片从一片腔体传到另一片腔体，每一步都是物理和化学的精确配合。精确配合就是很多层知识同时起作用——量子力学决定化学键的断裂概率，热力学决定等离子体的温度分布，流体力学决定反应产物的排出效率，控制论决定反馈回路的稳定性。每一层知识都是一个独立的信息系统，但它们在蚀刻腔里汇合，共同作用在一块直径三百毫米、厚度零点七七五毫米的硅片上。汇合就是传的节点。节点上的每一道工序，都是成千上万篇论文、成千上万个工程师、成千上万次实验失败后积累下来的。积累下来就是蚀在工序里了。工序不会说话，但工序记得一切。
第一片硅片从蚀刻腔里出来的时候，高槿之看了时间。凌晨两点十七分。FAB里没有日夜——洁净室的照明永远是五百勒克斯的冷白光，温度永远是二十二度正负零点五，湿度永远是百分之四十五正负百分之三。这些参数不是随便定的。温度波动超过零点五度，光刻机的物镜系统会产生热膨胀，焦距偏移，对准偏差增大。湿度波动超过百分之三，静电积累增加，吸附更多颗粒，缺陷密度上升。每一个参数都和一个潜在的失败模式耦合在一起。失败模式就是偏差的来源。偏差的来源有成千上万种，工程师的工作是把每一种都控制在规格内。规格就是容错的边界。边界以内，信息可以正常传递；边界以外，信息开始丢失；丢到一定程度，芯片废了。
芯片废了不是坏了——是从来没活过。一片硅片从投入生产线到完成所有工序，要经过七八百道步骤，耗时两到三个月。每一步都可能死。死得早的，在第一道光刻对准失败时就被检出，退出生产线，成为废片。死得晚的，做到第三十几层才发现缺陷密度超标，前面所有的工序全部白费。白费就是那些时间、能量、材料、人力所携带的信息全部被抹掉了。抹掉不是消失了——热力学第一定律说能量守恒，那些能量还在宇宙的某个地方，只是不能再被用来传递信息了。不能再被用来传递信息就是熵增到了最大值。最大熵就是完全无序。完全无序就是白噪声。白噪声是传的反面。
高槿之回到公寓的时候已经快四点了。他没有睡意。大脑在看完蚀刻后处于一种奇特的清醒状态——不是兴奋，是一种被物理定律震慑后的安静。安静就是神经元放电的频率降低了，从贝塔波的十几赫兹降到阿尔法波的八到十二赫兹。阿尔法波是闭眼放松时的脑电特征。他闭上眼睛，让阿尔法波占据视觉皮层。视觉皮层在闭眼时并不闲着——它开始回放今天看到的图像：等离子体的蓝光，硅片表面在真空里旋转的反光，缺陷分布图上红色的小点，代工厂走廊里荧光灯在环氧地坪上的倒影。回放不是原样播放——每一次回放都是重新建构。重新建构就是重新蚀刻。突触权重在微调，树突棘在微米尺度上膨胀或收缩，新的蛋白质在突触后致密区被合成。记忆就是物理结构的改变。改变就是信息蚀进了大脑。
大脑的蚀刻比芯片的蚀刻慢了不知多少倍。芯片的蚀刻在几秒到几分钟内完成一层。大脑的蚀刻需要几小时到几天来巩固一次记忆，需要几个月到几年来熟练掌握一项技能。安安学绣花学了二十年——从五岁到二十五岁。二十年间，她的小脑和基底节记住了每一种针法对应的手指运动序列，她的体感皮层变得对针尖的阻力极度敏感，她的视觉皮层学会了分辨四十三种紫色的细微差别。那些差别没有名字——紫藤紫、茄子紫、暮霭紫、伤口紫、淤青紫、泡桐花紫——名字是她后来才学到的。先有的是感觉。感觉是最深