第422章改造成功,0.1纳米精度光刻机
    “开始吧。”许锋说。

    苏工按下了启动键,光刻机开始运作。

    首次试制持续了将近三个小时,期间没有人说话,古工和苏工各自盯着自己负责的显示屏。

    运动平台的位移数据在纳米级别上跳动,曝光光源的光强曲线平稳,光学系统的成像质量监测数据每隔几秒刷新一次,每一次都在公差带以内。

    许锋站在两人身后,目光从一块屏幕移到另一块屏幕。

    超级大脑在后台同步处理着所有子系统的实时数据流,每一个参数的波动都在他的感知范围之内。

    终于,试制结束。

    测试晶圆从光刻机里退出来的时候,苏工的手在控制面板上停了一下才按下确认键。

    他拿起晶圆,送进旁边的检测工位。

    扫描电子显微镜对准晶圆表面的第一片曝光区域。

    图像清晰之后,车间里安静了很长时间。

    古工第一个开口:“线宽精度二十五纳米。达到基础版设计指标。曝光均匀性合格。重复定位精度——合格。”

    苏工没说话。

    他站在检测屏幕前面,把同一片区域的检测图像反复对比了三遍。

    三遍之后,他在检测报告上签了字,然后把签字笔放在桌上,靠进椅背里长长地出了一口气。

    “二十五纳米,跟国际上最先进的比还有差距,但作为第一台自主制造的光刻机,已经是了不起的起点了。”苏工的声音里带着疲惫,也带着一丝不易察觉的遗憾。

    许锋看了一眼检测报告上的关键数据。

    曝光线宽、套刻精度、缺陷密度——每一项指标都达到了基础版图纸标注的设计要求,但也仅仅是达到。

    二十五纳米,在军用芯片领域够用,但要做人工智能生命体的核心处理器,这个精度远远不够。

    他拿起笔在报告的最后一页签了字,心里已经在盘算另一件事。

    “古工、苏工,这阵子辛苦了。今天早点休息,后续的优化方案我来想办法。”

    古工摘下老花镜揉了揉眼睛,这八周他几乎没睡过一个完整的觉:

    “也好,基础版跑通了,后面的路就好走了。许大队长,优化方案的事你多费心,我和苏工明天再过来。”

    两人收拾了工具,关上洁净车间的主灯,脚步声沿着走廊渐渐远去。

    许锋在车间门口站了一会儿,没有跟着下楼。

    见所有人远去,他转过身,重新推开洁净车间的门。

    许锋走到光刻机前面,伸手按在外壳上。

    他打开了孤狼系统的后台。

    “需要升级吗?指挥官。”

    光刻机基础版样品的状态标签旁边,弹出了一个从未出现过的选项——“光刻机改造升级方案”。

    选项下方的描述文字简要列出了改造升级的内容:光学系统精度从深紫外微米级提升至极紫外纳米级,精密运动平台定位精度提升一个数量级,曝光光源升级为极紫外波段,控制系统集成人工智能自适应校正算法。

    兑换积分:二十万。

    许锋在黑暗中站了片刻,二十万积分不是小数目,但此刻他手里的积分足够。

    他看了一眼光刻机控制面板上那个“25n的检测记录——这个数字今天让古工和苏工满意地点了头,但在许锋心里,它只是一个起点。

    后续的发展需要的处理器、激光武器的核心光学组件、天基动能拦截器的制导芯片,这些都需要更高精度的光刻机来制造。

    他点击了“确认兑换”。

    系统界面上立刻弹出一行提示文字:“光刻机改造升级启动。请确认光刻机处于待机状态且物理连接完整。”

    许锋按照提示检查了一遍光刻机的状态,所有子系统处于待机模式,供电稳定,冷却系统正常运行。

    他点击确认。

    进度条没有出现,倒计时也没有出现。

    取而代之的是一行简洁的文字:“改造进行中。请勿离开设备十米范围。”

    许锋愣了一下。

    他原本以为会像之前兑换其他方案一样,兑换完之后在系统后台慢慢等就行了。

    但这一次系统明确要求他必须在设备附近守候。他看了看洁净车间里唯一一张椅子,拉过来坐下,背靠着墙,面对着光刻机。

    最初的十几分钟什么动静都没有,光刻机安静地立在原地,控制面板上的指示灯照常闪烁。

    然后他听到了声音。

    不是机械运转的声音,而是更细微、更密集的声响——像是有无数极细小的零件在机器内部重新排列组合的底噪。

    许锋站起来,走到光刻机侧面。

    外壳的金属表面看不出任何变化,但当他用手掌贴上去的时候,能感觉到一种极细微的震颤从机器内部传导

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