第1139章 不够!远远不够!
高速粒子束流沿著优化后的轨道呼啸而过,在强磁场作用下偏转时。

    主控室的大屏上,代表主约束磁场波动的频谱曲线异常平稳。

    之前那些剧烈的毛刺几乎消失不见。

    耦合节点区域的磁场监测数据显示,石墨烯涂层发挥了强大的电磁屏蔽作用。

    “粒子束流轨道锁定,高度稳定,能量损耗率低於预期值!”

    “捕捉到高能辐射信號!峰值波长確认...13.5纳米!”

    “euv输出功率计算…”

    负责监测的研究员声音带著一丝不易察觉的激动。

    “初始功率…32w,稳定在…35w!”

    “35w!!!”

    钱宏远忍不住惊叫,满脸骇然。

    这个数值,比第一次测试的峰值还高!

    还没有让他回过神,更关键的数据紧隨其后。

    “主约束磁场监测,波动幅度低於安全閾值10%!”

    “等离子体湍流抑制率维持在设计值,堆芯核心温度稳定,无异常升温。”

    负责功率监测的研究员也连忙匯报。

    “主堆稳定输出功率…短暂下降1.2%,3秒后恢復平稳,整体影响低於1.5%!”

    一声声匯报,响彻整个实验室。

    所有听到这些结果的研究员,还有钱宏远、冯建辉等人,都呆住了。

    成功了!?

    不仅成功了,结果还异常出色。

    解决了问题的同时,还远超了第一次测试的数据!

    巨大的压力瞬间消散,实验室里响起一片压抑后的欢呼声。

    “太好了,终於成功了!”

    “李工牛逼。”

    “还以为又要以失败告终了,没想到啊,最后李工竟然挽狂澜於既倒!”

    “还得是李工啊!”

    “……”

    研究员们的激动,溢於言表。

    第二次测试的结果,出奇之好。

    石墨烯涂层的电磁屏蔽效果和优化后的粒子注入参数完美匹配,將干扰降到了最低限度,代价从5%锐减到可忽略的1.2%,而euv光源功率反而提升到了35w!

    李阳脸上充满了笑容,但也只是持续了片刻。

    他对这个结果很满意,当然也在预料之中。

    只是,单单做到这一步,还远远不够。

    他要的,是独立自主的造出光刻机!

    他立刻吩咐道。

    “钱教授,立刻组织人手,全面分析第二次测试的所有数据,特別是粒子束流的精准控制参数、辐射强度分布以及磁场同步性……”